【政局】美日傳媒上周六（28日）報道，美國、日本及荷蘭上周五（27日）在美國華盛頓舉行的3國高級國安官員會議上，已就先進晶片生產設備對華出口管制達成協議，藉阻止中國取得先進科技，減緩中國軍事發展。惟因憂慮北京報復，以及荷、日需時國內立法，故暫未正式對外公布。
根據協議，荷蘭將限制該國的歐洲最大半導體生產設備製造商艾斯摩爾（ASML）對華出售至少部分浸沒式光刻機，即深紫外光光刻生產線中最先進的裝置，它對生產先進晶片非常重要。日本亦會對尼康（Nikon）採取類似限制。《華爾街日報》引述消息人士指，美日荷3國均未有正式宣布協議，是因為日本及荷蘭憂慮遭中國報復。另一方面由於日本與荷蘭需在國內修訂法律，或需時數月才會正式執行協議內容。
日荷憂華報復、需時立法 暫未公布協議
美國去年10月對向中國出售半導體及半導體製造設備實施嚴格管控。日荷政府的支持，是美國對華「晶片禁令」的成敗關鍵，原因是這兩國的半導體生產設備製造商，包括ASML、尼康和東京電子（TEL），均屬業界龍頭企業。日、荷兩國首相本月先後訪美，跟美國總統拜登作重要商討。
就應對中國科技進步，歐盟、日本及韓國等美國盟友與華府的合作愈來愈密切，但它們與中國有龐大商業關係，在執行限制本地企業的政策時顯得謹慎。
ASML在美國的發言人指該公司得悉上周五達成的協議，但未有談及更多細節，僅稱現在就評估對公司的影響言之過早。尼康的代表則表示該公司在許可範圍內於中國開展業務，暫未從政府聽到任何更嚴格限制的消息。
（共同社/華爾街日報）
