【今日点击】6月8日，杭州璞璘科技近日向深圳力策科技正式交付型號為PL-AS的半導體級真空氣壓式納米壓印光刻機。據悉該設備是首款光晶片專用納米壓印光刻設備，全程繞開ASML深紫外光刻（DUV）路線，實現8英寸光晶片晶圓規模化量產。
國產納米壓印技術完全繞開ASML深紫外光刻路線
據《快科技》報道，成立於2017年的杭州璞璘科技（Prinano），創始人葛海雄師從納米壓印技術先驅、美國工程院院士周郁。2025年8月，該公司已交付中國首台半導體級納米壓印光刻設備。
公開資料顯示，納米壓印技術由美國國家工程院院士、華裔科學家周郁（Stephen Y. Chou）教授於1995年首創。彼時傳統DUV光刻遭遇100nm解像度硬性技術瓶頸，周郁提出基於高分子模壓工藝的微納製造方案，突破光學衍射極限，實現10nm以下超高解像度結構加工，成為全球公認的下一代微納製造核心技術。
據了解，璞璘科技本次交付的自主研發的真空氣壓式納米壓印方案，完全繞開傳統ASML 的DUV光刻路線，並將光晶片製造成本壓縮至DUV方案的十分之一。據悉，荷蘭半導體設備巨頭ASML（艾司摩爾）在DUV微影設備市場具備統治級地位，全球市占率高達9成以上。
目前，該技術已在多個光晶片領域實現量產驗證，這些光晶片廣泛應用於光通信、傳感和激光雷達領域。
此次量產突破的核心是璞璘科技自主研發的PL-AS真空氣壓式晶圓級納米壓印光刻設備，配合定製化雙層壓印膠材料體系與核心工藝，採用「空氣墊」式面接觸壓印原理，能將晶圓整面壓力均勻性誤差控制在0.5%以內，殘餘層厚度偏差小於2nm，同時支持硬質與柔性模板，線寬解像度可達10nm以下。
本次深度合作的深圳力策科技，是全球首家即將實現OPA純固態激光雷達量產的企業，其激光雷達產品已通過萊茵權威認證，成功斬獲廣汽、上汽等主流車企整車定點訂單，已陸續量產交付。依託璞璘科技PL-AS納米壓印設備，力策科技順利實現激光雷達晶片的規模化製備，高精度、低成本的新工藝。
相關技術量產規模、良率尚未得到充分驗證
值得注意的是，行業對於納米壓印技術的實際價值仍存在廣泛爭議。研究機構SemiAnalysis表示，儘管納米壓印設備本身成本更低，但其實際成本優勢取決於產能、模板生產、缺陷率和工藝集成水平，短期內難以替代DUV和EUV在先進邏輯晶片製造中的主導地位。
此外，早在2025年8月璞璘科技就交付中國首台半導體級納米壓印光刻設備，但目前未披露具體的生產良率、出貨量、客戶訂單及獨立驗證數據，其商業化規模仍有待進一步觀察。
